高端微纳光刻装备是开展微纳新材料、半 导体、MEMS、 生物芯片、精密电路、平板显 示、固态照明等领域技术研发和产品生产的必 要设备。研发团队在高精度激光微纳米直写和 加工技术方面开展了长期研发创新,建立了业 内首个跨尺度的微纳柔性制造平台,其中,大 幅面微纳直写光刻装备幅面达65寸,结构分 辨率109纳米,打破了纳米光刻加工系统严重 依赖国外引进的局面,具有国际领先水平,并 在国内外得到广泛应用(南开大学、苏州纳米 所、上海理工大学、以色列、日本、韩国等)。
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高端微纳光刻装备是开展微纳新材料、半 导体、MEMS、 生物芯片、精密电路、平板显 示、固态照明等领域技术研发和产品生产的必 要设备。研发团队在高精度激光微纳米直写和 加工技术方面开展了长期研发创新,建立了业 内首个跨尺度的微纳柔性制造平台,其中,大 幅面微纳直写光刻装备幅面达65寸,结构分 辨率109纳米,打破了纳米光刻加工系统严重 依赖国外引进的局面,具有国际领先水平,并 在国内外得到广泛应用(南开大学、苏州纳米 所、上海理工大学、以色列、日本、韩国等)。